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Stability and extreme ultraviolet photo-reduction of graphene during C-K edge NEXAFS characterization / Gerlin F; Zuppella P; Corso AJ; Nardello M; Tessarolo E; Bacco D; Pelizzo MG. - In: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. - ISSN 0257-8972. - ELETTRONICO. - 296:(2016), pp. 211-215. [10.1016/j.surfcoat.2016.04.030]

Stability and extreme ultraviolet photo-reduction of graphene during C-K edge NEXAFS characterization

Bacco D;
2016

Abstract

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2016
296
211
215
Gerlin F; Zuppella P; Corso AJ; Nardello M; Tessarolo E; Bacco D; Pelizzo MG
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