Electrodeposition and Surface Modification for Technological and Industrial Applications

La tesi esplora l’elettrodeposizione come tecnica versatile e sostenibile per la sintesi e la modifica di materiali avanzati destinati ad applicazioni tecnologiche e industriali. Il lavoro si concentra sulla crescita controllata di film sottili, leghe e nanostrutture su silicio, con particolare attenzione a sistemi Mn–As e Ni–Mn–As per applicazioni in spintronica ed elettrocatalisi. Parallelamente, viene studiata la fabbricazione di nanofili di silicio tramite metal-assisted chemical etching (MACE), utilizzando metalli depositati elettrochimicamente come catalizzatori. La ricerca integra aspetti fondamentali di elettrochimica e caratterizzazione dei materiali con applicazioni pratiche, includendo anche l’ottimizzazione sostenibile dei processi di elettrodeposizione industriale. Nel complesso, la tesi dimostra il potenziale dell’elettrodeposizione come piattaforma scalabile, a basso costo e a ridotto impatto ambientale per lo sviluppo di materiali funzionali per energia, elettronica e industria.